Хафниев оксид
Характеристики
Химична формула: HfO₂
Наименование: хафниев(IV) оксид / хафниев оксид
CAS №: 12055-23-1
Моларна маса: 210,49 г/мол
Плътност: 9,68 г/см³
Температура на топене: около 2758 °C
Температура на кипене: около 5400 °C
Цвят: бял
Форма: финодисперсен прах или плътен спечен материал
Диелектрична проницаемост: около 25
Ширина на забранената зона: около 5,3-5,7 eV
Показател на пречупване: около 2,1
Хафниевият оксид (HfO₂) е неорганично съединение, което принадлежи към важните High-k диелектрици в съвременната полупроводникова промишленост и се използва във високотемпературни керамични материали. Доставя се под формата на финодисперсен бял прах или плътни спечени изделия и се отличава с изключително висока термична стабилност.
При стайна температура HfO₂ кристализира предимно в моноклинна структура. При повишаване на температурата материалът преминава в тетрагонална фаза приблизително от 1700 °C, а при още по-високи температури - в кубична фаза. Хафниевият оксид се отличава с висока химична инертност и практически не се разтваря във вода, спиртни среди и повечето киселини. Разтваряне е възможно по-специално във флуороводородна киселина и концентрирана гореща сярна киселина.
Една от ключовите особености на хафниевия оксид е високата диелектрична проницаемост около 25 при ширина на забранената зона приблизително 5,3-5,7 eV. Тази комбинация от свойства позволява използването на HfO₂ за формиране на много тънки изолиращи слоеве в полеви транзистори с намалени токове на утечка и запазване на висок електричен капацитет.
Хафниевият оксид притежава също висок показател на пречупване около 2,1 и добра оптична прозрачност в широк диапазон от близкия ултравиолет до средното инфрачервено излъчване. Благодарение на това материалът се използва в интерференционни филтри, лазерни огледала и многослойни оптични покрития.
Промишленото получаване на HfO₂ може да се осъществява чрез термично разлагане на хафниев нитрат или оксалат. За изработване на тънки функционални слоеве в микроелектрониката се прилага и атомно-слойно отлагане ALD с използване на летливи хафниеви прекурсори.
Ако ви интересува къде се използва хафният, неговият оксид е особено търсен в микроелектрониката, оптичните покрития, специалната керамика, сензорните и високотемпературните технологии. Искате да купите хафниев оксид? В Auremo можете да уточните наличната чистота, формата на доставка и условията за поръчка. Запитванията "хафний метал", "хафний цена за грам" и "хафний цена за кг" се отнасят преди всичко до металния хафний, докато цената на хафниевия оксид зависи от чистотата, формата на материала и количеството.
Предимства
• Висока диелектрична проницаемост High-k
• Възможност за намаляване на токовете на утечка в тънки изолиращи слоеве
• Изключително висока термична стабилност
• Температура на топене около 2758 °C
• Широка забранена зона около 5,3-5,7 eV
• Висок показател на пречупване около 2,1
• Добра прозрачност от близкия UV до средния IR диапазон
• Висока химична устойчивост
Области на приложение
• High-k диелектрици в микроелектрониката
• Интегрални схеми, процесори и графични процесори
• DRAM и RRAM структури
• Полеви транзистори
• Интерференционни оптични филтри
• Лазерни огледала
• Антирефлексни покрития
• Специална и огнеупорна керамика
• Термобарьерни покрития
• Тигли за високочисти синтези
• Режеща керамика
• Неутронопоглъщащи материали
• Функционални тънкослойни газови сензори
Auremo предлага хафниев оксид и други високочисти специални материали за промишлени и високотехнологични приложения. Ако имате въпроси относно HfO₂, наличната чистота, формата на доставка или условията за поръчка, свържете се с нас директно.
